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光刻机软件支持基于Windows的图形用户界面的设计，注重用户友好性，并可轻松引导操作员完成每个流程步骤。多语言支持，单个用户帐户...
EVG120光刻胶自动处理系统附加模块选项预对准：光学/机械ID读取器：条形码，字母数字，数据矩阵系统控制：操作系统：Window...
EVG101光刻胶处理系统的旋转涂层模块-旋转器参数转速：蕞高10krpm加速速度：蕞高10krpm喷涂模块-喷涂产生超声波雾化喷...
EVG键合机掩模对准系列产品，使用蕞先近的工程技术。用户对接近式对准器的主要需求由几个关键参数决定。亚微米对准精度，掩模和晶片之间...
EVG®610曝光源：汞光源/紫外线LED光源；楔形补偿全自动软件控制；晶圆直径（基板尺寸）高达100/150/200毫米；曝光设...
EVG620NT特征2：自动原点功能，用于对准键的精确居中具有实时偏移校正功能的动态对准功能支持蕞新的UV-LED技术返工分拣晶圆...
EVG®150特征：晶圆尺寸可达300毫米多达6个过程模块可自定义的数量-多达20个烘烤/冷却/汽化堆多达四个FOUP装载端口或盒...
岱美有限公司于1989年，是数据存储，半导体，光学，光伏和航空航天行业领制造商和创新研发机构的先进设备分销商。 在21世纪初期，岱美已从我们在中国香港的总部扩展到亚洲，以满足客户的多样化需求。在当今全球化的市场中，我们的客户包括连接东南亚各国的综合供应链。我们的专业人员随时准备与他们会面。 我们的总部设在中国香港，在中国大陆地区（北京和上海，以及广东东莞）拥有强大的业务。我们还在马来西亚、新加坡、...
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