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海南二极管费用

来源: 发布时间:2022年05月27日

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用两个半桥可组成一个桥式整流电路,一个半桥也可以组成变压器带中心抽头的全波整流电路;在整流桥的每个工作周期内,同一时间只有两个肖特基二极管进行工作,通过肖特基二极管的单向导通功能,把交流电转换成单向的直流脉动电压。2、肖特基二极管的作用及其接法-开关肖特基二极管在正向电压作用下电阻很小,处于导通状态,相当于一只接通的开关;在反向电压作用下,电阻很大,处于截止状态,如同一只断开的开关。利用肖特基二极管的开关特性,可以组成各种逻辑电路。由于肖特基二极管具有单向导电的特性,在正偏压下PN结导通,在导通状态下的电阻很小,约为几十至几百欧;在反向偏压下,则呈截止状态,其电阻很大,一般硅肖特基二极管在10ΜΩ以上,锗管也有几十千欧至几百千欧。利用这一特性,肖特基二极管将在电路中起到控制电流接通或关断的作用,成为一个理想的电子开关。基本的开关电路如图所示,在这个电路中,肖特基二极管的两端分别通过电阻连接到Vcc和GND上,肖特基二极管处于反向偏置的状态,不会导通。通过C1点施加的交流电压就无法通过肖特基二极管,在C2后无法检测到交流成分。在这张图中,肖特基二极管的接法与上图相反。海南二极管费用二极管,就选上海藤谷电子科技有限公司,用户的信赖之选,欢迎您的来电!

本发明的另一个实施例提供了一种整流电路,包括上述任一实施例所述的用于整流电路的肖特基二极管。与现有技术相比,本发明的有益效果:本发明通过对肖特基二极管的材料进行设计,采用应变ge层作为肖特基接触的半导体层,通过对ge材料的能带结构进行调制,使肖特基二极管具有更高的电子迁移率和能带优势,使用该肖特基二极管制备的整流电路具有更高的转换效率;本发明在ge层上增加通过压应力层施加压应力,工艺简单,且生成的应变ge层不会因为晶格失配产生大量缺陷,因此得到的应变ge层质量更好,因此,肖特基二极管的器件性能也更优;本发明的肖特基二极管结构简单,无需设计复杂的二极管结构,元件的互连结构简单。附图说明图1为本发明实施例提供的一种用于整流电路的肖特基二极管的结构示意图;图2为本发明实施例提供的一种用于整流电路的肖特基二极管的制备工艺的流程示意图;图3a~3h为本发明实施例提供的一种用于整流电路的肖特基二极管的工艺示意图。具体实施方式下面结合具体实施例对本发明做进一步详细的描述,但本发明的实施方式不限于此。实施例一请参见图1,图1为本发明实施例提供的一种用于整流电路的肖特基二极管的结构示意图。

因氧化层开设有防水凹槽,即便环境中存在水汽,水汽在侵入时也会聚集在防水槽1031,不会进入到肖特基结,进一步确保肖特基二极管不会失效。在本申请实施例的一种可能的实施方式中,衬底101和外延层102可以为n型半导体层,半导体环104可以为p型半导体环。在本申请实施例的另一种可能的实施方式中,衬底101和外延层102可以为p型半导体层,半导体环104可以为n型半导体环。在本申请实施例中,在衬底101和外延层102为n型半导体层,半导体环104为p型半导体环时,衬底101可以为重掺杂半导体层,衬底101的电阻率可以为ω·cm;外延层102可以为轻掺杂半导体层,外延层102的电阻率可以为ω·cm,其中,外延层102的厚度可以为5μm-30μm。防水槽1031可以是一种规则形状的凹槽,也可以是不规则形状的凹槽。例如图1及图2所示,防水槽1031可以是u型槽,也可以是v型槽,当然还可以是其他形状的凹槽或者不同形状凹槽的组合。防水槽1031的深度小于氧化层103的厚度。在本申请实施例中,肖特基结108由多层金属组成,具体地,该多层金属可以包括ti、ni、ag等。请参照图3,本申请实施例还提供一种用于制造上述肖特基二极管10的制造方法,该制造方法包括以下步骤:步骤s301,请参照图4a。上海藤谷电子科技有限公司是一家专业提供二极管的公司,期待您的光临!

并部分延伸至所述氧化层上;在所述氧化层远离所述肖特基结的两端进行蚀刻形成防水槽;在所述氧化层远离所述衬底一侧制作钝化层,其中,所述钝化层包括填充于所述防水槽并在所述防水槽的位置形成与防水槽咬合的凸起。在本申请的一种可能实施例中,蚀刻所述氧化层,在所述外延层远离所述衬底的一侧形成半导体环的步骤,包括:在所述氧化层远离所述衬底的一侧均匀涂覆光刻胶层;通过带有半导体环图案的掩模对所述光刻胶层进行光刻,在所述光刻胶层上刻出半导体环图案;使用腐蚀溶剂对所述氧化层进行腐蚀,将所述半导体环图案转移到所述氧化层;使用光刻胶溶剂将所述氧化层残留的光刻胶去除;在所述半导体环图案对应区域注入离子,经扩散炉中退火处理在所述半导体环图案对应区域形成半导体环。在本申请的一种可能实施例中,将所述半导体环之间的所述氧化层蚀刻掉,在蚀刻后形成的区域中制作肖特基结的步骤,包括:在所述氧化层远离所述衬底的一侧涂覆光刻胶层;通过带有肖特基结图案的掩模对所述光刻胶层进行光刻,在所述光刻胶层上刻出肖特基结图案;用腐蚀溶剂进行腐蚀,将所述肖特基结图案转移到所述氧化层;蚀刻所述肖特基结图案对应区域内残留的氧化层;通过物相淀积法。上海藤谷电子科技有限公司是一家专业提供二极管的公司,有想法的可以来电咨询!海南二极管费用

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本发明实施例通过在n型ge层淀积氮化硅层产生压应力从而使n型ge层内产生压应力,n型ge层内通过施加压应力引起能带结构的调制,反映在能带图上就是导带底的曲率发生改变,即改变了导带电子的有效质量,引起各散射机制中散射概率的改变,进而提高了n型ge层内的电子迁移率。进一步地,将ge层中引入应力的方式还有通过掺杂和热失配等,与通过掺杂和热失配等引入应变的方式相比而言,氮化硅层致ge层应变的工艺更加简单,且不会因为晶格失配产生大量缺陷,故而能够得到质量更好的压应变ge层,因此可以提高制备的肖特基二极管器件的性能。具体地,在ge层002中的应力大小与压应力层003的制备条件相关,具体地,其他工艺条件不变的情况下,压应力层003反应温度越高,压应力层003使ge层002中的产生的应力越大,且呈一定的线性关系。在其他工艺条件不变的情况下,压应力层003使ge层002中的产生的应力越小。在其他工艺条件不变的情况下,低频功率越大,形成压应力层003使ge层002中的产生的应力越大。设fwg为氮化硅层使所述ge层002中产生的压应力大小,则fwg和温度tp的关系满足:fwg=×fwg的单位为pa,twg的单位为摄氏度。具体地,在其他工艺条件不变的情况下,压强越高。海南二极管费用

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